- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
單面雙工位實(shí)驗(yàn)室手套箱
主要特點(diǎn)
1、可自動(dòng)化功能控制氣壓，檢測(cè)，凈化，還原
2、觸摸屏幕：彩色中英文操作界面，易于進(jìn)入各功能，實(shí)現(xiàn)人機(jī)對(duì)話
3、循環(huán)：閉合環(huán)氣體循環(huán)，無(wú)油和真空
4、氣壓控制：自動(dòng)控制，工作氣壓可設(shè)定在范圍+/-12mbar
5、箱體清洗：自動(dòng)控制，易于操作，節(jié)約氣體，對(duì)操作溶劑**
6、腳踏開(kāi)關(guān)：箱內(nèi)氣壓可通過(guò)腳踏開(kāi)關(guān)調(diào)整
7、配置國(guó)際知名品牌組件
8、密封性能優(yōu)越，更換方便
9、數(shù)據(jù)備忘錄：自動(dòng)記錄系統(tǒng)數(shù)據(jù)
技術(shù)參數(shù)
1、箱體
|
箱 體 |
1200mm（長(zhǎng)）×770mm（下寬）×900mm（高）、材質(zhì)為3mm厚SUS304 |
|
前 窗 |
傾斜設(shè)計(jì)的操作面，8mm厚可拆卸鋼化玻璃視窗 |
|
手套 口 |
直徑220mm硬鋁合金實(shí)心棒材加工而成，經(jīng)耐腐蝕陽(yáng)極氧化處理 |
|
手 套 |
美國(guó)諾斯丁基橡膠手套，手套口徑8英寸，厚度0.4 mm |
|
壓 力 |
使用壓力區(qū)間為-12mbar—12mbar |
|
壓力開(kāi)關(guān) |
德國(guó)哈斯瓦謝微壓壓力傳感器 |
|
照 明 |
使用LED燈帶，節(jié)能環(huán)保 |
|
置 物 架 |
箱體設(shè)置2層置物架 |
|
支 架 |
高920mm，安裝有萬(wàn)向腳輪及不銹鋼水平支撐座 |
|
接 口 |
箱體設(shè)置多個(gè)KF40接口，以便于接入液體、氣體、信號(hào)等 |
|
電 源 |
220V、50Hz多孔灌膠插線板 |
|
過(guò) 濾 器 |
箱體進(jìn)出口處采用復(fù)合HEPA標(biāo)準(zhǔn)的過(guò)濾精度0.3微米高效過(guò)濾器 |
|
泄 漏 率 |
＜0.05vol%/h |
|
自動(dòng)清洗 |
箱體帶自動(dòng)清洗功能，快速置換箱體氣氛 |
2.過(guò)渡艙
|
尺 寸 |
大過(guò)渡艙Φ390mm*600mm，材質(zhì)為3mm厚SUS304，活塞門(mén)。 |
|
位 置 |
箱體右側(cè)有大小過(guò)渡艙各1個(gè)，箱體左側(cè)有1個(gè)小過(guò)渡艙 |
|
托 盤(pán) |
大過(guò)渡艙內(nèi)設(shè)可滑動(dòng)300mm*450mm SUS304托盤(pán)。 |
|
操 作 |
大過(guò)渡艙手動(dòng)開(kāi)閉，具有自動(dòng)抽氣補(bǔ)氣功能，通過(guò)觸摸屏控制。 |
|
真空度 |
≤－0.1MPa，帶顯示，配置德國(guó)WIKA耐震真空壓力表 |
