- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
主要性能指標(biāo)
1：主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學(xué)腐蝕易清潔）
2：內(nèi)腔采用易清潔、耐腐蝕的超高分子材料（HDPE）
3：旋涂程序：*多可存100組程序，每組100步，每個步驟可**到0.1秒
4：旋涂速度：0-10000rpm
5：旋涂加速度：0-50000rpm/s
6：馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差：＜±1rpm（CY-AC200-SE)；＜±0.1rpm（CY-AC200-PE)
7：轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度及重復(fù)性：1rpm（CY-AC200-SE);0.1rpm（CY-AC200-PE)
8：CY-AC200-PE另帶真空數(shù)字顯示、開關(guān)壓力調(diào)節(jié)和電子水平顯示功能
9：工藝時間設(shè)定：0-3000sec/step，時間設(shè)置精度：0.1sec
10：支持wafer尺寸：碎片至200mm（8''圓晶）
11：旋涂作業(yè)均勻性：＜±3%在6英寸范圍內(nèi)（需要去除邊緣3毫米測量）
產(chǎn)品特性優(yōu)點
1：*新的內(nèi)部緊湊設(shè)計，縮小了設(shè)備的尺寸
2:采用7英寸觸摸屏控制面板，操作更加便捷
3：采用“密閉碗”設(shè)計，可以適應(yīng)各種材料的勻膠工藝。
4：標(biāo)準(zhǔn)配置的轉(zhuǎn)速為10000rpm，可以根據(jù)用戶需要進行定制
5：采用工業(yè)級的伺服電機，電機獨特的設(shè)計可以避免光刻膠等污染物進入電機內(nèi)部
6：機身選用耐酸堿、耐沖擊、耐腐蝕不銹鋼，永不生銹，便于清洗。
7：排風(fēng)和抽氣系統(tǒng)位于載片臺的底部，利于排風(fēng)效率和勻膠的均一性
8：透明可視，耐化學(xué)腐蝕的密封蓋，可以在旋涂作業(yè)時完全隔絕光阻的溢出及有效隔絕有毒氣味的散發(fā)。
