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磁控濺射鍍膜儀
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  • 單靶磁控濺射鍍膜儀 本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源)。...
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  • 四英寸四靶靶磁控濺射鍍... 用于金屬+非金屬 鈦膜、金膜、鉻膜、二氧化硅薄膜生長多層薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、有機(jī)物等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗...
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