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- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
本設(shè)備系統(tǒng)主要由濺射室、加熱旋轉(zhuǎn)基片臺(tái)、磁控靶組件，濺射電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)，安裝機(jī)臺(tái)等部分組成，本系統(tǒng)配有磁控靶及電源，多靶材傾斜共濺射的方式沉積薄膜，設(shè)備配置一套強(qiáng)磁靶，三套永磁靶，四靶磁控鍍膜儀，可用于金屬+非金屬 鈦膜、金膜、鉻膜、二氧化硅薄膜生長(zhǎng)多層薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、有機(jī)物等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
設(shè)備配有四個(gè)磁控靶，三套直流電源和一套射頻流電源可以分別獨(dú)立控制，，靶置于底部?jī)A斜共濺射，靶基距自動(dòng)可調(diào)，磁控靶帶有靶材原位清洗功能可用于鍍多層導(dǎo)電金屬膜。同時(shí)設(shè)備配置手動(dòng)磁力傳遞桿，取送1片基片裝置，這樣的設(shè)計(jì)能夠減少主腔室抽放真空的次數(shù)，不僅能有效節(jié)省時(shí)間，更能保證更好的本地真空，減少污染，方便使用有效提高鍍膜質(zhì)量。本設(shè)備水冷腔體，樣品臺(tái)可加熱至800攝氏度，旋轉(zhuǎn)功能.
技術(shù)參數(shù):
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供電電源 |
220, 50Hz |
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樣
臺(tái) |
位置 |
上部 |
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直徑尺寸 |
6 英寸（兼容小尺寸基片） |
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樣品臺(tái)升降距離 |
90mm-130mm 電動(dòng)升降 調(diào)整交接位置離子能量調(diào)節(jié)裝置1套 |
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可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
0-20rpm 可調(diào) |
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加熱溫度 |
RT~800℃ 控溫精度±1℃，采用合金加熱片加熱器（24 小時(shí)連續(xù)加熱 800 小時(shí)無(wú)故障）離子能量調(diào)節(jié)裝置 1 套，改善應(yīng)力分布，有助于減少膜層開裂翹曲風(fēng)險(xiǎn) |
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真 |
主腔體尺寸 |
D500X500 |
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送樣室 過(guò)渡傳送樣品腔體 |
300mm*220*110mm具備自動(dòng)傳送樣品功能 |
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腔體材料 |
304 不銹鋼 |
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烤氣和照明 |
具備內(nèi)烘烤除氣功能，具備腔外照明功能 |
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內(nèi)壁處理 |
電解拋光 |
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密封方式 |
氟橡膠密封 |
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開門方式 |
手動(dòng)鋁合金前開門 |
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觀察窗口 |
φ100mm（帶擋板） |
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均 |
膜厚均勻性 |
≤±5% |
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樣品傳輸 |
手動(dòng)磁力傳遞桿 |
取送1片基片 |
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磁 槍 |
數(shù)量 |
1RF+3DC，配電動(dòng)擋板，一套強(qiáng)磁靶，三套永磁靶 可以鍍金、鈦、鉻、二氧化硅以及其他任何金屬和非金屬膜層 強(qiáng)磁靶：1套，尺寸3英寸75mm（用于濺射磁性材料薄膜，靶材厚度2mm 范圍內(nèi)），直流 永磁靶1套，尺寸3英寸75mm； 直流 永磁靶1套, 尺寸3英寸75mm 直流 射頻靶1套 尺寸3英寸75mm 射頻
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擺頭角度 |
可調(diào)角度-45~45 度 |
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濺射方向 |
向上濺射 |
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靶材平面 |
圓形平面靶 |
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靶材直徑 |
3英寸 |
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靶材厚度 |
*厚3mm |
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直 |
數(shù)量 |
3臺(tái) |
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電源功率 |
500W |
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輸出電壓 |
0～800V |
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模式 |
電源可支持恒流、恒壓、恒功率三種模式 |
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直流電源工作壓力范圍 |
0-100pa |
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*大輸出電流 |
1A大于0.75A |
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連續(xù)工作時(shí)間 |
≥24 小時(shí) |
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啟動(dòng)時(shí)間 |
1~10S |
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射 |
數(shù)量 |
1臺(tái) 600W |
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功率 |
輸出功率：600W |
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陽(yáng)極層離子源 |
數(shù)量 |
1臺(tái) |
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功率 |
對(duì)基片進(jìn)行清洗，1套，配套擋板組件，*大離子能量≥700eV； |
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膜 |
通道數(shù) |
單通道 |
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測(cè)量精度 |
0.1 ? |
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測(cè)量速度 |
100ms-1s/次，可設(shè)置測(cè)量范圍：500000?（鋁） |
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標(biāo)準(zhǔn)傳感器晶體 |
6MHz |
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適用晶片尺寸 |
Φ14mm |
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真 |
前級(jí)泵 |
雙極旋片泵*2套 1 套旋片真空泵抽速≥13L/S，1 套旋片真空泵抽速≥8L/S；
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渦輪分子泵 |
數(shù)量：2 1 套濺射室分子泵抽速2000L/s 1 套進(jìn)樣室分子泵抽速600L/s 額定轉(zhuǎn)速：27000rpm 啟動(dòng)時(shí)間：≦5min 冷卻方式：水冷 進(jìn)氣接口：ISO150 出氣接口：KF40 |
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真空度 |
濺射室：≤8.0x10-6Pa(經(jīng)烘烤除氣后)； 進(jìn)樣室：≤6.6x10-4Pa(經(jīng)烘烤除氣后)； 從大氣開始抽氣：濺射室30分鐘可達(dá)到6.6x10-4Pa |
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保壓性能 |
系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度：≤5Pa |
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真空測(cè)量 |
復(fù)合真空計(jì)，測(cè)量范圍10-5Pa ~ 105 Pa 濺射室：1x105Pa-1x10-7Pa，進(jìn)樣室：1x105Pa-1x10-5Pa，工藝薄膜規(guī) 13.3pa；
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水 |
冷卻水流速 |
CW500010L/min |
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整機(jī)功率 |
冷卻水循環(huán)機(jī)制冷量 6.2KW |
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冷卻功率 |
50W/℃ |
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水箱容量 |
9L |
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氣體控制 |
4路質(zhì)量流量控制器： 氬氣：0-200SCCM（準(zhǔn)確度：±1.5%F.S）， 氮?dú)猓?/span>0-100SCCM（準(zhǔn)確度：±1.5%F.S）， 氧氣：0-100SCCM（準(zhǔn)確度：±1.5%F.S）， 甲烷氣：0-200SCCM（準(zhǔn)確度：±1.5%F.S）， 配有混氣罐可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)氣體攪拌裝置 1 套；
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空壓系統(tǒng) |
≥140L/min 1套 |
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控制系統(tǒng) |
由工控機(jī)和PLC實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)系統(tǒng)的控制， 有自動(dòng)和手動(dòng)控制兩種功能， 操作過(guò)程全部在觸摸屏上實(shí)現(xiàn)， 提供配方設(shè)置、真空系統(tǒng)、磁控系統(tǒng)、工藝系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)等人機(jī)操作界面； 在工控機(jī)上可通過(guò)配方式參數(shù)設(shè)置方式實(shí)現(xiàn)對(duì)程序工藝過(guò)程和設(shè)備參數(shù)的設(shè)置PLC自動(dòng)控制 10.5英寸觸摸屏 自動(dòng)鍍膜程序： 具備長(zhǎng)膜程序設(shè)置，程序設(shè)置數(shù)量>10個(gè) 具各工藝記錄長(zhǎng)膜過(guò)程參數(shù)功能 |
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其他 |
配備工具箱1套，空氣壓縮機(jī)排氣量≥140L/min，數(shù)量≥1套；冷卻水循環(huán)機(jī)制冷 量≥6.2KW，數(shù)量≥1套。100*100mm 樣品托≥10 件，其中≥5件盲托并配陣列螺釘孔，≥5件掩膜托。外置氣體質(zhì)量流量控制器≥2套，Air介質(zhì)(內(nèi)置氣體可切換≥98種)，量程范圍≥0～200sccm，質(zhì)量流量精度≤±0.6%讀數(shù)或±0.1%滿量程(取*大值)，可現(xiàn)場(chǎng)編輯混合氣體≥5種，顯示屏同時(shí)顯示質(zhì)量流量、體積流量、壓力、溫度等。外置氣體質(zhì)量流量控制器≥1套，帶流量顯示儀，量程范圍≥0～200sccm，準(zhǔn)確度：≤± 1.5%F.S。 |
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閥門 |
電控氣動(dòng)閘板閥 電控氣動(dòng)切斷閥 電控氣動(dòng)旁抽閥 |
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尺寸 |
1700mm*1000mm*1750mm |
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